∷ Facility
 

 


◆ Clean room
     

 

활용용도

나노 패턴 제작 및 고분자 나노 복제

  사양 - Class 1000
- 120평
  설치장소  본 연구실
 

◆ RIE
   

 

활용용도

나노 패턴 제작 및 금속 몰드 제작

사양

- LAM (Lam Research USA)
- Plasma source : CCP
- RF power : Ws:13.56MHz (1250W)
- Main gas : HBr, Cl2, SF6, CF4, O2, Ar
- Pressure range : 200~700mT
- ESC material : Al anodized

설치장소  본 연구실
 

◆ Nano Injection Molding
   System
 

 

활용용도

고분자 나노 복제

사양
- SUMITOMO SD40ER
- Clamping force :  40ton, 전동방식
- 금형온도조절기: 온도제어분해능 0.1℃
설치장소  본 연구실
 

◆ Nano UV-Molding System
 

 

활용용도

고분자 나노 복제

사양
- Beam uniformity :  3%이하
   / Tilt angle : 3˚ 이하
- Mechanical resolution : 1um
- Hydraulic unit Force resolution : 1kgf /    maximum force : 900kgf
설치장소  본 연구실

◆ Spectrometer
   

 

활용용도

소재 광특성 분석

사양

- Hitachi Model U-3010
- Double Beam UV/VIS Spectrophotometer
- Wavelength range : 190 ~ 900 nm
- Stray light : 0.015%
- Wavelength accuracy : ±0.05 nm
- Photometric accuracy :                                ±0.002Abs(0~0.5ABS)

설치장소  본 연구실
 

◆ 지향각 측정기
 

 

활용용도

지향각 측정

사양
- J & C VA2001
- Wavelength range : 190 ~ 110nm
- Azimuth angle : 0, 90, 180, 270 °
- 측정항목 : angle, intensity, dominant   wavelength, chromaticity diagrams, color   temperature, color rendering
설치장소  본 연구실
 

◆ Optical lithography System
   (Optical nano probe)

img1.gif
   

 

활용용도

나노 패턴 제작

사양

- 광원 : He-Cd 레이져(442nm)
- 광량 : 150 mW
- Spacial light modulator
- CCD camera

설치장소  본 연구실
 

◆ Wet station
 

 

활용용도

나노 패턴 제작

사양
- Maximum handling wafer size : 6 in
- DI water & Air gun system
- 2 sus bath, 1 teflon base, quick drain bath
- Ulra sonic system
설치장소  본 연구실
 

◆ Spin coater
 

 

활용용도

나노 패턴 제작

사양
- Ball size : 8 in
- Maximum rpm : 10000
- Channel : 50
- Vacuum chuck type
설치장소  본 연구실
 

◆ Optical microscope
 

 

활용용도

패턴 및 광부품 측정

사양
- 대물렌즈 : 5, 10, 20, 50, 100 X
- 전동식 revolver
- Top/bottom lighting system
- SVGA Digital CCD camera module
- Frame gripper
설치장소  본 연구실

◆ Dry oven
   

 

활용용도

고분자 나노 복제

사양
- Temp. range : Amb. + 10℃ to 250℃
- Acuracy : ± 1 ℃ ~ 100℃
설치장소  본 연구실
 

◆ Hot plate
 

 

활용용도

나노 제품 성형

사양
- Heating area : 6 in
- Deivation : under 0.5 degree Celsius
설치장소  본 연구실
 

◆ Contact angle analyzer
 

 

활용용도

나노 패턴 제작

사양
- O/S : Image Pro 4.0
- Micro drop system
- Frame gripper
설치장소  본 연구실
 

◆ IR Pyrometer
 

 

활용용도

물성 분석

  사양
- Temp. range : 0 ~ 500 degree celsius
- Wave length : 700 ~ 16000 nm
  설치장소  본 연구실
 

◆ Precision small dosage
   dispenser

 
 

 

활용용도

나노 제품 성형

사양
- Pattern channel : 50 Channels
- Control Method : Electronic / Pneumatic    System
- Dispensing Time Range : 0.01 ~ 99.99 sec
- Dispensing Pressure : 0~5kg/cm2
설치장소  본 연구실
 

◆ Electro Forming System

 
     

 

활용용도

금속 몰드 제작

  설치장소  본 연구실

◆ Compression Molding System

 
     

 

활용용도

고분자 나노 복제

  설치장소  본 연구실

◆ Glove Chamber

 
     

 

활용용도

SAM 증착

  설치장소  본 연구실

◆ Hydraulic Compressor

 
     

 

활용용도

기초 시편 제작

  설치장소  본 연구실

◆ 미소변형 측정기

 
     

 

활용용도

나노 제품 특성 측정

  설치장소  본 연구실

◆ Moldflow

 
     

 

활용용도

사출 성형 해석

  설치장소  본 연구실

◆ ANSYS

 
     

 

활용용도

응력 및  열해석

  설치장소  본 연구실

◆ Code V

 
     

 

활용용도

광학 시스템 설계 및 분석

  설치장소  본 연구실

◆ Light tools

 
     

 

활용용도

광학 조명 시스템 설계 및 분석

  설치장소  본 연구실
 

◆ FIB system

 
     

 

활용용도

나노 패턴 제작

  비고 학내 공동장비
 

◆ E-beam Lithography System

 
     

 

활용용도

나노 패턴 제작

  비고  학내 공동장비
 

◆ Mask Aligner

 
     

 

활용용도

나노 패턴 제작

 

비고

학내 공동장비


◆ Sputter

 
     

 

활용용도

나노 패턴 제작 및 금속 몰드 제작

 

비고

  학내 공동장비

◆ SPM

 
     

 

활용용도

나노 패턴 측정

 

비고

  학내 공동장비

◆ FE-SEM

 
     

 

활용용도

나노 패턴 측정

 

비고

  학내 공동장비

◆ Optical Nano Profiler

 
     

 

활용용도

나노 패턴 측정

 

비고

  학내 공동장비

◆ Polariscope

 
     

 

활용용도

광학 특성 측정

 

비고

  학내 공동장비